经等离子刻蚀机处理后,钛表层引入氨基并刻蚀,形成清洁表层

经等离子刻蚀机处理后,钛表层引入氨基并刻蚀,形成清洁表层:
鉴于钛片规格一定,接入钛片表层的基团数量比较有限,表明检测到的氮总量基本维持恒定,因此当氨基数量较多时,很难检测到氮化钛。氨和氮在等离子腔中电离。抛光钛片表层没有氧化膜,但氧化钛膜很快就会在空气中形成。

射频等离子体蚀刻机等离子体腔内的氮和氢等离子体(如-NH2.-NH.N等)会跃迁钛表层,使钛氧键断裂,与此同时形成的氢等离子体会还原表层的氧化钛,表层一部分纯钛会暴露在等离子体氛围中,高能氮和氢的等离子体会与钛再次引线键合,形成Ti-NH2.TiN或TiN.N-O等新键。
纯钛经N2和NH3混合气体等离子体处理后,表面张力维持在20°左右,表面张力减少50°左右,亲水性大大提高。这是因为钛表层经等离子蚀刻机处理后引入氨基并蚀刻,形成清洁表层。将处理后的钛片放入空气中,随着储存时间的增加,其表层亲水性减少,根本原因是等离子体处理后表面能高,容易吸附空气中的杂质。因此,清洗后亲水性再次测试,表层亲水性大大提高,这是因为表层氨基吸附的一些弱束缚杂质被洗掉。
射频等离子刻蚀机将改性钛片储存在稀有气体中,不仅可以防止钛片吸收空气中的杂质,还可以减缓等离子刻蚀造成的清洁表层损坏。密封条件好。不渗透空气和改性表层不接触其他物质可以长期保持表层亲水性,为改性样品转移到应用中提供参考储存方法。

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