CRF-VPO-4L-S真空等离子清洗机是一款专为高效、精密的表面处理需求设计的专业设备，特别适用于需要在真空环境下进行的清洗、活化和表面改性任务。这款设备能够在低压条件下操作，提供了一种有效的解决方案，用于去除材料表面的有机污染物、提高表面活性或进行表面预处理以便后续加工。
CRF-VPO-4L-S配备了先进的控制系统，允许用户根据不同的材料和工艺要求精确调整功率输出、气体流量及其他关键参数，确保最佳处理效果。它支持多种工艺气体，如氧气、氩气等，以适应不同类型的表面处理需求。该清洗机采用了高效的真空泵系统和冷却机制，保证了即使在长时间运行下也能保持稳定的性能，减少了因过热或真空度不足导致的问题。
这款设备具有直观易用的操作界面，使得设置和调整变得简单快捷，非常适合实验室研究及工业生产中的应用场景。无论是进行小规模实验还是大规模工业生产，CRF-VPO-4L-S都能提供强有力的支持，帮助实现高质量的表面处理。其广泛应用于电子制造、半导体加工、医疗设备制造等领域，在提升产品表面质量方面发挥着重要作用。
通过使用CRF-VPO-4L-S真空等离子清洗机，用户可以显著改善材料表面特性，从而增强产品的性能和耐用性，并探索更多新材料及其潜在的应用可能性。此外，其稳定性和灵活性使其成为科研开发和工业生产的理想选择，特别是在对表面质量和清洁度有严格要求的应用中。
荣誉资质
高新技术企业证书
Certificate of Compl
Verification of Conf
Certificate of Compl
名称（Name） | 真空式等离子处理系统 |
型号（Model） | CRF-VPO-4L-S |
控制系统（Control system） | PLC+触摸屏 |
电源（Power supply） | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
中频电源功率（RF Power） | 1000W/40KHz/13.56MHz |
容量（Volume ） | 30L(Option) |
层数（Electrode of plies ） | 4(Option) |
有效处理面积（Area） | 200(L)*150(W)(Option) |
气体通道（Gas） | 两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2 |
